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单向流洁净室主要用于电子工业和生物制药生产的局部区域。在生物产品生产中主要采用局部设置层流罩或净化工作台或生物安全柜等来满足产品生产工艺的要求。在电子工业中的微电子产品或一些电子器件产品生产中需要一个房间或一条生产线，甚至数条生产线的主要工序均需设置在严于5级的洁净室内，才能达到产品生产的要求。为此，单向流洁净室的空间布置己从 “单层”布置发展到“多层”布置。“单层”布置的单向流洁净厂房，在单向流洁净生产区的上部、下部设有上下技术夹层，在上技术夹层内布置送风管道、部分公用动力管线，无尘室施工，通过设在顶棚上的过滤器向洁净生产区均匀送风；通过设在下技术夹层的回风地板回风至空气处理装置。“多层”布置的单向流洁净厂房的主要特点是将洁净生产区与供应产品生产工艺所需的各类公用动力管线、产品生产工艺管线及工艺辅助设施等都布置在下技术夹层（底层）内，同洁净生产区分层布置。



光学微电子净化工程-洁净车间技术解决方案光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、***空气、***等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给于特别设计之密闭空间。光学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生***学、、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于优势地位。



洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，无尘室工程，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，无尘室，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高，无尘室承包，粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产合适湿度范围为35—45%。



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